Erwin Olaf & Hans Op de Beeck: Inspired by Steichen

Erwin Olaf & Hans Op de Beeck: Inspired by Steichen

Pour commémorer le 50e anniversaire de la mort d’Edward Steichen, le MNHA a monté un projet d’exposition passionnant réunissant le travail de deux artistes contemporains de renom, à savoir le photographe néerlandais Erwin Olaf (*1959) et l’artiste plasticien belge Hans Op de Beeck (*1969). En raison de leur considération mutuelle et de leur admiration commune pour l’œuvre de Steichen, les deux artistes ont accepté de travailler ensemble pour la première fois. L’exposition fait dialoguer la série Im Wald d’Olaf ainsi que des aquarelles, des sculptures et des vidéos d’Op de Beeck avec les photographies de paysage de Steichen, établissant ainsi des parallèles surprenants entre les trois artistes. Bien que très distincts, ils entrent ici en résonnance tels des musiciens virtuoses, créant une nouvelle harmonie, une présentation richement variée d’images aux tonalités noires, blanches et grises, dont l’unité et l’évidence sont frappantes. Cette exposition permet de jeter une lumière nouvelle sur l’œuvre du célèbre photographe né au Luxembourg et invite les spectateurs à redécouvrir les qualités artistiques de ses tirages à travers une optique résolument contemporaine. En plus de ce projet commun, Olaf et Op de Beeck ont accepté le commissariat d’exposition pour une sélection d’images issues de la vaste collection du MNHA qui sera présentée dans la salle Steichen du musée.